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韓日 무역전쟁 1년…포토레지스트, 국산화 더디지만 일본의존도 줄여

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등록 2020-07-09 15:44:18
포토레지스트 日의존도 6%p↓, 벨기에 등 수입처 다변화
일본 기업들 한국행 잇따라…TOK, 국내서 포토레지스트 생산
기술난이도 높은 EUV포토레지스트, 국산화 최소 5년 걸릴듯
전문가 "국산화보다 현재 더 중요한건 공급처 다변화"
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[서울=뉴시스] 최희정 기자 = 일본 정부가 반도체·디스플레이 핵심 소재 3개 품목에 대한 한국 수출 규제를 단행한 지 1년이 지났지만 당초 우려와 달리 국내 산업에 큰 피해는 적은 것으로 분석된다. 일본 규제가 오히려 소재·부품·장비(소부장) 산업 자립화 계기가 됐다는 평가도 나온다.

포토레지스트(감광액)의 경우 국산화가 되려면 시간이 필요하지만 국내 기업들의 투자와 함께 공급처 다변화를 통해 대일(對日) 의존도를 줄여가고 있다.

9일 한국무역협회에 따르면, 포토레지트스의 일본에 대한 수입의존도는 6%포인트 감소하고 벨기에 등으로 수입선 다변화가 이뤄졌다. 올해 1~5월 한국에 수입된 포토레지스트 가운데 벨기에산 비중은 5.8%까지 상승했다. 지난해 같은 기간(0.4%)과 비교해 수입액 규모도 48만6000달러에서 872만1000달러로 18배 가량 늘어났다. 벨기에산 포토레지스트를 수입하면서 일본산 비중은 91.9%에서 88.6%로 소폭 줄었다.

일본 반도체 소재기업들의 한국행도 잇따르고 있다.

도쿄오카공업(TOK)은 최근 인천 송도에 있는 삼성물산과의 합작법인(TOK첨단소재)에서 극자외선(EUV)용 포토레지스트를 본격 생산하기 시작했다. TOK 한국법인에서 생산한 EUV용 포토레지스트는 삼성전자 반도체 공정 적용 테스트가 진행되고 있는 것으로 전해졌다. TOK는 안정적인 공급망을 원하는 삼성전자를 위해 한국 생산을 늘리고 있다. EUV는 반도체 노광 공정에 쓰였던 불화아르곤(ArF) 대비 빛의 파장이 14분의 1 수준이어서 패턴을 좀더 세밀하게 새길 수 있는 장점이 있다. 

포토레지스트 국산화를 위한 기업들의 투자도 이뤄지고 있다.

SK머티리얼즈는 불화아르곤(ArF) 포토레지스트 개발에 나섰다. 400억원을 투자해 내년까지 국내에 공장을 설립하고, 2022년부터 연간 5만 갤런 규모의 포토레지스트를 생산한다는 목표다. 앞서 SK머티리얼즈는 지난 2월 포토레지스트를 생산해 온 금호석유화학의 전자소재사업을 400억원에 인수했다.

동진쎄미켐도 EUV 포토레지스트를 개발중이다. 이미 불화크립톤(KrF) 감광액을 상용화한 동진쎄미켐은 추가로 불화아르곤(ArF) 감광액도 업계에 최근 공급하기 시작했다. 동진쎄미켐은 EUV 포토레지스트 직전 단계인 반도체용 불화아르곤 액침 포토레지스트를 2010년 국내 최초로 개발·생산한 소재 전문 업체다. 글로벌 화학소재 업체 듀폰은 EUV 포토레지스트 생산 공장을 국내에 유치하기로 했다.

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[서울=뉴시스] 1일 무역협회에 따르면 올해 1~5월 포토 레지스트는 1억5081만 달러어치가 일본에서 수입됐다. 전년 동기 1억1272만 달러 대비 33.8% 증가한 규모다. 포토 레지스트는 빛을 인식하는 감광재로 반도체 기판을 만들 때 쓰인다. 삼성전자의 차세대 반도체 제조 공정에 투입되는 소재다. (그래픽=전진우 기자) 618tue@newsis.com
다만 삼성전자가 파운드리(반도체 위탁생산) 초미세공정 단계에서 쓰는 EUV 포토레지스트의 경우, 국산화까지 약 5년이 더 걸릴 것으로 업계에서는 보고 있다.

한국반도체디스플레이기술학회장을 맡고 있는 박재근 한양대 융합전자공학부 교수는 "EUV 포토레지스트는 기술난이도가 굉장히 높아서 일년 만에 국산화가 된다는 것은 있을 수 없다"며 "동진쎄미켐이 5년이 될지 10년이 될지 모르지만, EUV 포토레지스트를 개발하고 있다. 개발한다고 해서 다 성공하는 것은 아니다. 그래도 안할 수는 없다"고 말했다.

이어 "그래서 일본 수출규제 후 공급처 다변화부터 먼저 시도한 것"이라며 "(국내에 있는)TOK 공장에서 EUV 포토레지스트를 생산하고 듀폰도 한국 공장에서 만들어서 평가중에 있다. EUV 국산화는 몇 년 더 기다려야 한다. 국산화보다 더 중요한게 공급처 다변화"라고 강조했다.

안진호 한양대 신소재공학부 교수 역시 "EUV포토레지스트는 기술적으로 난이도가 높아서 국산화에 시간이 걸린다"고 지적했다.

그는 다만 "수요 기업에 대한 지원이 적극적으로 된다면, 시간이 걸리지만 국산화가 될 것"이라고 했다. 그러면서 "정부는 국산화까지 3년으로 보고 있지만 좀더 걸릴 것"이라고 덧붙였다.

또한 안 교수는 "불화아르곤(Arf) 포토레지스트도 국내기업이 쓰는 제품 대다수가 일본산이지만, 기술적 난이도가 EUV용 보다는 덜 어려워서 국산화 비율을 늘릴 수 있는 시기는 앞당겨질 것"이라고 내다봤다.


◎공감언론 뉴시스 dazzling@newsis.com
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