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삼성전자, 지난해 시설투자 48조2000억…반도체만 43조6000억

등록 2022.01.27 09:43:24수정 2022.01.27 10:35:43

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[서울=뉴시스]평택 2라인 전경. 2020.08.30. (사진=삼성전자 제공)

[서울=뉴시스]평택 2라인 전경. 2020.08.30. (사진=삼성전자 제공)

[서울=뉴시스] 이재은 기자 = 삼성전자는 27일 지난해 시설 투자액이 48조2000억원이라고 밝혔다. 사업별로는 반도체 43조6000억원, 디스플레이 2조6000억원이다.

메모리 반도체는 극자외선(EUV) 기반 15나노 D램, V6 낸드 등 첨단공정 수요 대응을 위한 평택·시안 생산라인 증설과 공정 전환, 평택 P3 라인 인프라 투자 등을 중심으로 시설투자가 진행됐다. EUV를 포함한 차세대 기술 적용을 선제적으로 확대해 메모리 투자가 전년 대비 증가했다.

파운드리는 평택 EUV 5나노 첨단공정 증설 등을 중심으로 투자가 진행됐다. 디스플레이의 경우 중소형 모듈과 퀀텀닷(QD) 디스플레이에 중점을 두고 투자했다.


◎공감언론 뉴시스 [email protected]

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