테스, 실리콘산화막 선택적 식각 관련 국내 특허 취득

【서울=뉴시스】장서우 기자 = 코스닥 상장 반도체 제조용 기계 제조업체 테스(095610)는 반도체 장비에 적용되는 기술인 실리콘산화막의 선택적 식각 방법에 관한 국내 특허를 취득했다고 31일 공시했다.

 이 특허는 실리콘산화막의 식각량은 더 증가시키고 실리콘질화막의 식각량은 더 감소시켜 공정의 단순화 및 공정 재현성에 우수한 장점이 있다.

회사 측은 "장비 제조 시 특허 기술 적용을 통해 제품 경쟁력을 강화할 것"이라고 밝혔다.

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