日기업 한국서 'EUV포토레지스트' 생산…아베정부 규제 피하나(종합)
"EUV 포토레지스트, 삼성 반도체 공정적용 테스트 중"
일부 日 반도체 소재회사, 한국서 생산 확대
[서울=뉴시스] 삼성전자 경기도 화성 극자외선(EUV) 전용 반도체 생산라인 전경. (사진: 삼성전자 제공) 2020.02.20.
일본 정부는 지난해 7월 반도체·디스플레이 제조에 필요한 핵심 소재인 포토레지스트, 불화수소, 플루오린 폴리이미드 등 3개 품목을 일반포괄허가 대상에서 개별허가 대상으로 바꿨다.
2일 업계에 따르면, TOK 측은 국내 한 매체에 TOK그룹 티오케이첨단재료주식회사(한국법인명)에서 EUV용 포토레지스트를 제조하고 있으며, 제품을 적시에 제공할 수 있다는 내용의 서면을 보냈다.
TOK 한국법인에서 생산한 EUV용 포토레지스트는 삼성전자 반도체 공정 적용 테스트가 진행되고 있는 것으로 전해졌다.
EUV용 포토레지스트는 웨이퍼(기판) 위에 패턴을 형성하는 노광공정에서 사용되는 감광성 재료로, 파장이 짧을수록 미세화 공정에 적용할 수 있다. 삼성전자는 비메모리 라인에서 사용하고 있다.
SK하이닉스의 경우 D램 등 메모리 반도체 사업이 주력인 점을 감안한다면 삼성전자가 일본 기업이 한국 현지에서 생산한 EUV 포토레지스트에 관심을 보일 것으로 보인다.
반도체업계 한 관계자는 "생산공정 적용 테스트를 하려면 양산 라인에서 해야한다"며 "EUV용 포토레지스트를 쓰는 곳은 삼성 밖에 없을 것이다. SK하이닉스의 경우 EUV 포토레지스트를 연구용으로 소량 쓸 정도"라고 말했다.
삼성전자 관계자는 "이에 대해 확인 할 수 없다"고 밝혔다.
포토레지스트는 플루오린 폴리이미드와 함께 국산화가 더딘 상황이다. 동진쎄미켐 등이 EUV용 포토레지스트를 개발 중이지만 언제 양산될지 알 수 없다.
반도체업계 관계자는 "일본은 최고 미세공정에 쓰이는 EUV용 포토레스트처럼 기술 개발하기 어려운 제품을 지정해서 규제한다"며 "EUV 포토레지스트는 일본의 기술력이 뛰어나다. 대체가 안되고 있으며, 상당부분을 일본에서 수입한다"고 전했다.
이런 가운데 일본 정부가 세워놓은 무역 장벽을 피해 일부 일본 기업들은 한국행을 택했다. 최근 일본 반도체 소재회사들은 한국에서 생산을 확대하고 있다.
일본 간토덴카 공업은 반도체용 특수가스인 '황화카르보닐'을 천안 공장에서 생산하기 시작했다. 반도체용 필름인 솔더레지스트의 전 세계 점유율 1위 회사 다이요홀딩스는 지난 5월 충남 당진 투자를 발표했다.
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