美인텔, 日연구소와 일본에 반도체 제조장치·소재 R&D 거점 신설

닛케이 보도…수천억원 투자, 3~5년 후 설치 목표

[뉴욕=AP/뉴시스]미국 인텔은 일본 국립 산업기술종합연구소(이하 연구소)와 최첨단 반도체 제조장치·소재 연구개발(R&D) 거점을 일본에 설치할 예정이라고 3일 니혼게이자이신문(닛케이)이 보도했다. 사진은 미국 뉴욕 타임스퀘어의 나스닥 마켓사이트 화면에 2018년 10월3일 인텔 로고가 보이고 있는 모습. 20244.09.03.

[서울=뉴시스] 김예진 기자 = 미국 인텔은 일본 국립 산업기술종합연구소(이하 연구소)와 최첨단 반도체 제조장치·소재 연구개발(R&D) 거점을 일본에 설치할 예정이라고 3일 니혼게이자이신문(닛케이)이 보도했다.

신문에 따르면 인텔과 연구소는 3~5년 후 거점 신설을 목표로 하고 있다. 투자액만 수백억엔(수천억원)에 달할 전망이다.

특히 거점은 일본 연구기관으로서는 처음으로 극자외선(EUV) 노광장치를 도입할 예정이다.

연구소가 거점 운영 주체가 된다. 인텔은 EUV을 사용한 제조 노하우 등을 제공한다.

일본 기업들은 거점에 이용료를 지불하고 EUV 시험 등을 할 수 있다. 미국 연구기관과 기술협력, 인재 교류도 검토할 계획이다.

일본에서는 최첨단 반도체 양산을 목표로 하는 기업 라피더스가 제조용 EUV 장치를 올해 12월에 도입할 계획이다.

그러나 EUV 노광장치는 아직 네덜란드 ASML이 독점하고 있다. 일본 연구기관은 EUV를 보유하고 있지 않다.

EUV 장치 가격은 1대당 400억엔(약 3700억 원)에 달한다. 기업이 개별 구입하기 어려워 해외에서도 연구기관의 EUV 장치를 사용해 개발을 추진하고 있다.

게다가 미중 갈등 속 미국은 중국에 대한 EUV 장치 수출은 규제하고 있다. EUV 관련 장치, 소재도 심사 대상이 돼 외국에서의 연구, 성과, 데이터를 일본으로 들이기 위해서는 시간이 걸린다.

신문은 "(일본) 국내 연구기관에 EUV 장치가 있으면 자사 제품에 대한 연구 성과 활용 문턱이 낮아진다"고 짚었다.


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